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可靠性測(cè)試Chiller適合哪些特殊工藝?

 更新時(shí)間:2026-01-14 點(diǎn)擊量:31

  無(wú)錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司的可靠性測(cè)試Chiller(高低溫循環(huán)裝置/半導(dǎo)體溫控設(shè)備)憑借寬溫域、高精度、快速響應(yīng)和全密閉系統(tǒng)等特性,廣泛適配多種對(duì)溫度控制要求嚴(yán)苛的特殊工藝場(chǎng)景。

  一、半導(dǎo)體與微電子制造工藝

  1. 晶圓前道制程

  光刻(Lithography

  控制光刻膠涂布平臺(tái)溫度(±0.1℃),防止粘度漂移,提升圖案分辨率。

  曝光后快速冷卻晶圓,制熱應(yīng)力形變。

  干法刻蝕(Dry Etch

  準(zhǔn)確冷卻靜電吸盤(pán)(ESC)至-20~80℃,穩(wěn)定等離子體環(huán)境,提高刻蝕均勻性。

  化學(xué)氣相沉積(CVD/ 原子層沉積(ALD

  控制反應(yīng)腔壁與氣體輸送管路溫度,避免副反應(yīng)或顆粒生成。

  快速熱處理(RTP

  配合高溫?zé)粼矗峁┛焖俳禍芈窂剑糜谕嘶鸷篌E冷。

  化學(xué)機(jī)械拋光(CMP

  恒溫拋光液(通常23±0.5℃),保障表面平整度。


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  2. 優(yōu)良封裝與測(cè)試

  晶圓級(jí)封裝(WLP)、3D IC堆疊

  控制臨時(shí)鍵合/解鍵合工藝中的熱壓溫度(如150~250℃)。

  高溫老化測(cè)試(HTOL)、溫循測(cè)試(TCT

  支持-65~150℃快速溫變,模擬車(chē)規(guī)/航天芯片工況。

  二、高分子與精細(xì)化工合成

  1. 特種聚合反應(yīng)

  聚酰亞胺(PI)、環(huán)氧樹(shù)脂、聚氨酯等縮聚反應(yīng)常需150~300℃恒溫,反應(yīng)結(jié)束后需急速冷卻終止鏈增長(zhǎng)。

  冠亞可靠性測(cè)試Chiller可實(shí)現(xiàn)“升–恒–降"全流程閉環(huán)控制,避免爆聚或焦化。

  2. 連續(xù)流微反應(yīng)器(Microreactor

  強(qiáng)放熱/吸熱反應(yīng)中,通過(guò)外循環(huán)Chiller準(zhǔn)確控壁溫(±1℃),保障反應(yīng)選擇性與收率。

  支持24/7連續(xù)運(yùn)行,適用于醫(yī)藥中間體、精細(xì)化學(xué)品生產(chǎn)。

  三、新能源材料制備

  1. 鋰電材料工藝

  正前驅(qū)體共沉淀反應(yīng)需50~60℃恒溫;

  固態(tài)電解質(zhì)(如LLZO)高溫?zé)Y(jié)前的預(yù)熱與冷卻控制。

  2. 燃料電池催化劑熱處理

  在惰性氣氛下進(jìn)行200~300℃程序升溫,Chiller配合保護(hù)氣體系統(tǒng)防止氧化。

  優(yōu)勢(shì):全密閉油路系統(tǒng),杜絕高溫下導(dǎo)熱油氧化,保障材料純度。

  四、生物醫(yī)藥與制藥工程

  1. 高沸點(diǎn)溶劑脫除與熔融結(jié)晶

  某些API(活性藥物成分)需在180~250℃下脫除DMFNMP等高沸點(diǎn)溶劑;

  結(jié)晶終點(diǎn)快速降溫以控制晶型(如Form I vs Form II)與粒徑分布。

  2. 凍干(Lyophilization)預(yù)冷階段

  提供-40℃以下低溫載冷液,加速樣品凍結(jié),提升凍干效率。

  五、科研與高校實(shí)驗(yàn)室

  低溫物理實(shí)驗(yàn)(如超導(dǎo)、量子器件測(cè)試)

  激光器溫控(光纖激光、半導(dǎo)體激光器冷卻)

  材料熱物性測(cè)試(DSCDMA輔助控溫)

  特點(diǎn):噪音低、體積小、支持LabVIEW/Python遠(yuǎn)程控制,適合教學(xué)與研發(fā)。

  不適用場(chǎng)景提醒

  可靠性測(cè)試Chiller不適合以下情況:

  工藝溫度 > 350℃(超出導(dǎo)熱油安全上限);

  需要明火或開(kāi)放式電加熱的工藝;

  對(duì)介質(zhì)潔凈度要求高且嚴(yán)禁任何油類(lèi)接觸(此時(shí)可選純水冷+電加熱組合方案)。

可靠性測(cè)試Chiller“一套系統(tǒng)替代傳統(tǒng)‘電加熱 + 冷水機(jī)’兩套設(shè)備",實(shí)現(xiàn)高溫加熱、準(zhǔn)確控溫、快速冷卻三位一體,特別適合高技術(shù)門(mén)檻、高可靠性要求的特殊工藝場(chǎng)景。如您有具體工藝參數(shù)(如溫度范圍、流量需求、介質(zhì)類(lèi)型),可進(jìn)一步選擇匹配的冠亞型號(hào)。